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簡(jiǎn)要描述：LK Technologies低能電子衍射儀真空組件聯(lián)系張經(jīng)理：I872I868549（微信同號）
產(chǎn)品型號：RVL2000廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-12-13訪(fǎng) 問(wèn) 量：600
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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
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LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
自1998年以來(lái)，LK一直在全球范圍內提供LEED低能電子衍射儀系統。
RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結構，無(wú)需使用玻璃纖維或聚合物涂層線(xiàn)束。提供完整系列的型號和選件，包括低電流（nA，pA）MCP型號。所有光學(xué)器件均采用4網(wǎng)格結構，以實(shí)現與俄歇電子能譜AES連用
采用4格鎢光學(xué)元件的精密結構
微型1.59厘米直徑電子槍
103度可用視角
0.5％的能量分辨率
提供可伸縮光學(xué)元件（標準2英寸和最大4英寸縮回）
安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置
與UHV兼容（不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線(xiàn)）
低噪音，高性能的俄歇電子設備，帶有集成鎖定放大器
MCP版本的pA和nA電流水平
全系列選項包括低調快門(mén)，CCD攝像頭和軟件，6英寸和8英寸外徑法蘭型號
LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
HREELS高分辨電子能量損失譜儀在分辨率和信號水平方面表現全球?，F在結合我們的多通道分析儀選件（EA5000MCA），可實(shí)現數據采集速度。用于研究表面分子振動(dòng)，表面聲子和等離子體以及電子能級和能帶隙。
超高分辨率0.5 meV FWHM
在1.0 meV分辨率（FWHM）下保證探測器電流大于或等于10pA
采用具有可控角度像差的新型靜電偏轉器
具有菜單驅動(dòng)軟件的低噪聲數字控制電子設備
用戶(hù)可選擇的掃描范圍高達50 eV，適用于電子振動(dòng)/電子應用
LK1000M電子槍有出色能量分辨率的電子源，針對高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化 應用于逆UPS，EELS等電子碰撞實(shí)驗。
低于10 meV的能量分辨率可通過(guò)能量調節
在20 meV能量分辨率下，典型輸出電流> 10 nA
單通道雙聚焦單色器，具有空間電荷優(yōu)化功能
5元素變焦鏡頭/轉移鏡頭，適用于長(cháng)工作距離
整體磁屏蔽
除了表面分析組件外，LK Technologies還專(zhuān)門(mén)設計和構建完整的特高壓系統，這些系統通常結合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。
這些系統的常見(jiàn)元件是精密UHV室，主泵（通常是離子泵），輔助泵（通常是渦輪分子），精密樣品操縱器，安裝框架和真空計量?？蛻?hù)通常要求的可選組件是快速樣品引入系統（加載鎖定）和烘烤控制。
請聯(lián)系LK獲取更多信息，并討論您的自定義系統要求。多探針?lè )治鱿到y是全球實(shí)驗室提供的一個(gè)例子：
多探針?lè )治鱿到y，包括XPS分析，X射線(xiàn)單色儀，半球形分析儀，AES，ISS，多通道HREELS和帶有快速樣品加載系統的完整樣品制備室。
LK-Technologies強大，流行的離子源設計用于通過(guò)離子濺射清潔表面，光束能量高達3 keV，典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統，該系統允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進(jìn)行濺射。
氣體注入系統避免了昂貴的差動(dòng)泵送設備
低室壓下的惰性氣體濺射
寬離子束確保均勻濺射
與普通濺射清潔和ISS應用兼容
連續可調諧的電壓從200 V到3 kV
帶USB或以太網(wǎng)接口的數字控制電子設備
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