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VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發(fā)器

簡(jiǎn)要描述：VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發(fā)器
聯(lián)系張經(jīng)理：I8721868549

  • 產(chǎn)品型號：PLD-T
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-12-12
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：600

詳細介紹

品牌其他品牌價(jià)格區間面議
產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口應用領(lǐng)域綜合

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發(fā)器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統,濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過(guò)脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。
脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計量。通過(guò)應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤(pán)管）

脈沖激光沉積系統可配備三個(gè)獨立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設計不會(huì )使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長(cháng)度可在 5~10 cm 范圍內調節，滿(mǎn)足客戶(hù)要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

  • 轉速可調的目標機械手
  • 3 個(gè)熱源和特殊的饋入件
  • 用于實(shí)時(shí)厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）
  • 直觀(guān)的觸摸屏，用于控制涂層過(guò)程和快速數據輸入
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  • 用戶(hù)友好型軟件，可通過(guò)網(wǎng)絡(luò )更新
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  • 配備電子快門(mén)
  • 配備機動(dòng)船選擇
  • 500 °C 基板加熱器
  • 兩年保修


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