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HARRICK 光譜儀附件原位漫反射

簡(jiǎn)要描述：美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進(jìn)行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應， HARRICK 原位漫反射附件 HARRICK 低溫紅外附件 HARRICK 光譜儀附件原位漫反射

  • 產(chǎn)品型號：CHC-CHA-4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-12-12
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：687

詳細介紹

品牌Harrick應用領(lǐng)域電氣

美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進(jìn)行漫反射測量，HARRICK 原位漫反射附件，HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 HARRICK 低溫紅外附件，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應。


漫反射光譜法是檢測粗糙材料表面變化的一種非常靈敏的方法。它對具有高比表面積的粉末特別有效。這使得漫反射對于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應和氧化機制的研究非常寶貴。Harrick低溫反應室非常適合在仔細變化的溫度和壓力下進(jìn)行此類(lèi)研究。這些低溫反應室允許在廣泛的控制溫度和壓力下進(jìn)行漫反射測量，并與用于FT-IR和UV-Vis漫反射光譜的漫反射配件一起使用。 設計用于高真空（133μPa或10-6托）至133 kPa（1 ktorr）和-150°C至600°C（真空條件下）的研究。

HARRICK 光譜儀附件原位漫反射

提供三個(gè)入口/出口，用于排空反應池和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。

HARRICK 低溫紅外附件包括
反應室
低壓加熱筒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤(pán)。
帶有兩個(gè)KBr窗口和一個(gè)玻璃觀(guān)察窗口的圓頂（FTIR配置）
帶有兩個(gè)SiO2窗口和一個(gè)玻璃觀(guān)察窗口的圓頂（UV-Vis-NIR配置）

HARRICK 光譜儀附件原位漫反射 搭配附件：

（1）漫反射裝置 DRP-XXX

HARRICK 光譜儀附件原位漫反射

（2）溫控儀ATK-024-6

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